메모리 강자인 SK하이닉스가 최근 공정 핵심인 극자외선 장비와 재료, 소프트웨어까지 넓게 묶어 협력 지도를 다시 그리고 있습니다. 공급망이 흔들릴 때마다 생산 계획이 영향을 받은 경험이 쌓이면서, EUV 국산화 추진은 선택이 아닌 과제가 됐습니다. 장비 한 대로 끝나는 문제가 아니라, 마스크, 레지스트, 측정, 오염 관리, 교육까지 이어지는 긴 사슬을 함께 묶어야 성과가 납니다. 오늘은 이 사슬을 어떻게 연결하고 있는지, 어떤 단계에서 현실적인 진전이 나오는지, 그리고 우리에게 어떤 의미가 있는지 쉽게 풀어보겠습니다.
많은 분이 EUV 국산화를 장비 자체로만 생각하지만, 실제로는 공정 전후 단계가 더 큽니다. 노광기 본체는 여전히 해외 의존이 크지만, 주변 생태계는 다릅니다. 예를 들어 EUV용 레지스트, 마스크 결함 검사, 펠리클, 포토마스크 공정용 기판, 노광 후 측정 장비는 국산 파트너와 손잡을 여지가 큽니다. SK하이닉스는 이 부분을 묶어 공동 개발과 성능 검증 라인을 열어가고 있습니다. 생산 라인에서 바로 쓰기 위해서는 불량률, 수율, 장비 가동률 데이터를 꾸준히 쌓아야 하기에, 파일럿 구간을 따로 두고 결과를 제품으로 연결하는 구조를 택하고 있습니다. 이런 방식은 리스크를 줄이면서도 속도를 확보하는 데 유리합니다.
EUV 국산화가 성과를 내려면 실험실 성능보다 라인 성능이 중요합니다. SK하이닉스는 노광 공정 전후 데이터를 협력사와 바로 공유하는 체계를 만들고, 레지스트 배합, 현상 조건, 세정 시간 같은 변수를 빠르게 바꿔보는 반복 실험을 돌리고 있습니다. 또 마스크 결함을 빠르게 잡아내는 검사 장비와 펠리클 내구성 검증을 함께 진행해, 제품 바꿀 때마다 생기는 라인 멈춤을 줄이고 있습니다. 이 과정에서 국산 부품의 교체 주기, 유지보수 시간, 소모품 비용을 숫자로 공개해 협력사 개선 속도를 끌어올리는 전략도 병행됩니다. 현장 데이터가 모이면 스태핑 계획과 장비 배치도 바꿀 수 있어, EUV 국산화의 체감 효과가 커집니다.
노광기 한 대가 아무리 좋아도 사람과 방법이 받쳐줘야 합니다. SK하이닉스는 장비 튜닝, 결함 분석, 오염 관리 교육 과정을 묶어 파트너들과 함께 운영하는 방식을 넓히고 있습니다. 소재 기업에는 장비 사용 시간을, 장비 기업에는 결함 샘플과 로그를 제공합니다. 이렇게 서로의 빈칸을 채우면 시험 주기가 짧아지고 성공률이 올라갑니다. 아울러 EUV 공정과 맞는 클린룸 소모품, 케미칼 공급 안정화, 수입 대체가 가능한 스페어 파트까지 범위를 넓혀 EUV 국산화를 한 단계로 끝내지 않고, 단계별로 나누어 성과를 쌓는 구조를 만들고 있습니다. 이 과정은 메모리뿐 아니라 파운드리 협업으로도 번질 수 있어, 생태계 전반의 선택지가 많아집니다.
SK하이닉스가 앞장서 만든 이 협력 틀은 한두 품목의 대체가 아니라, 생산 라인 전체를 끊김 없이 돌리려는 시도에 가깝습니다. EUV 국산화의 목표는 빨라지는 공정과 안정적인 수율, 그리고 공급망 충격에 덜 흔들리는 체질입니다. 지금 당장 모든 것을 바꿀 수는 없지만, 주변 공정과 소재부터 차근차근 자리를 잡으면 실제 제품 일정에 힘이 실립니다. 업계의 관심이 커지는 이유도 여기에 있습니다. 앞으로 어떤 품목이 먼저 자리 잡고, 어떤 분야가 다음 주자가 될지 지켜볼 만합니다.
